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Máquina de limpieza láser

Categoría de productos de Máquina de limpieza láser, somos fabricantes especializados procedentes de China, Máquina de limpieza láser, Máquina de limpieza láser proveedores / fábrica, de alta calidad al por mayor productos de Máquina láser de eliminación de óxido I + D y fabricación, tenemos el perfecto servicio y soporte técnico post-venta. Esperamos contar con su cooperación!

Todos los productos

  • Máquina de limpieza láser INCODE 500W

    Máquina de limpieza láser INCODE 500W

    • Marca: EN CODIGO

    • Paquete: Paquete de caja de madera de exportación estándar

    Los equipos de limpieza láser son una nueva generación de productos de alta tecnología para la limpieza de superficies. Fácil de instalar, operar y automatizar. Abra el equipo, puede limpiar sin reactivos químicos, medio y agua. Puede eliminar resina, aceite, manchas, suciedad, óxido, revestimiento, enchapado,...

  • Máquina de limpieza láser INCODE 100W

    Máquina de limpieza láser INCODE 100W

    • Marca: EN CODIGO

    • Paquete: Paquete de caja de madera de exportación estándar

    Los equipos de limpieza láser son una nueva generación de productos de alta tecnología para la limpieza de superficies. Fácil de instalar, operar y automatizar. Abra el equipo, puede limpiar sin reactivos químicos, medio y agua. Puede eliminar resina, aceite, manchas, suciedad, óxido, revestimiento, enchapado,...

  • Máquina de limpieza láser de mano de fibra de pulso de 300 W

    Máquina de limpieza láser de mano de fibra de pulso de 300 W

    • Marca: EN CODIGO

    • Paquete: Paquete de caja de madera de exportación estándar

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  • Máquina láser de eliminación de óxido INCODE 200W

    Máquina láser de eliminación de óxido INCODE 200W

    • Marca: EN CODIGO

    • Paquete: Paquete de caja de madera de exportación estándar

    Los equipos de limpieza láser son una nueva generación de productos de alta tecnología para la limpieza de superficies. Fácil de instalar, operar y automatizar. Abra el equipo, puede limpiar sin reactivos químicos, medio y agua. Puede eliminar resina, aceite, manchas, suciedad, óxido, revestimiento, enchapado,...

China Máquina de limpieza láser Proveedores

Aplicaciones de la limpieza láser

Microelectrónica: componentes semiconductores, dispositivos microelectrónicos, plantillas de memoria, etc .; protección de reliquias culturales: tallas de piedra, bronces, vidrio, óleos y murales, etc.
Limpieza abrasiva: moldes de caucho, moldes compuestos, moldes metálicos, etc.
Tratamiento de superficies: Tratamiento hidrofílico, tratamiento de soldaduras antes y después de soldar, etc.
Eliminación de pintura y óxido: aviones, barcos, armamento, puentes, recipientes a presión de metal, tuberías de metal, etc .; piezas de aviones, piezas de productos eléctricos, etc.
Otros: Grafiti urbano, rodillos de impresión, muros exteriores de edificios, industria nuclear, etc.


Proceso de limpieza láser


La absorción de gran energía forma un plasma de rápida expansión (un gas inestable altamente ionizado), que produce ondas de choque;
La onda de choque convierte los contaminantes en fragmentos y se elimina;
El ancho del pulso de luz debe ser lo suficientemente corto para evitar la acumulación de calor que dañe la superficie procesada;
Los experimentos muestran que cuando hay óxido en la superficie del metal, se genera plasma en la superficie del metal;


El rayo emitido por el láser es absorbido por la capa de contaminación de la superficie a tratar;

Principio de limpieza láser

El plasma solo se genera cuando la densidad de energía es superior al umbral, que depende de la capa de contaminación o de la capa de óxido que se elimine. Este efecto de umbral es muy importante para una limpieza eficaz al tiempo que garantiza la seguridad del material base. Existe un segundo umbral para la aparición de plasma. Si la densidad de energía supera este umbral, el material base se destruirá. Para realizar una limpieza eficaz bajo la premisa de garantizar la seguridad del material base, los parámetros del láser deben ajustarse de acuerdo con la situación para que la densidad de energía del pulso de luz esté estrictamente entre los dos umbrales.





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